K575X高分辨率溅射仪

EMITECH K575X 高分辨率溅射仪 ——Peltier制冷型 K575X使用“涡轮”泵，前级为旋片式机械泵，整个抽真空过程为自动控制。 真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。 本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可**更换靶材。 溅射头用Peltier制冷，可得到**、精细颗粒的涂层（*水冷却）。 溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。 K575d（双头）其它与K575X相同，只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。 注：K575d技术规格与K575X相同，但它具有两头。K575X具有peltier制冷，对于比较厚的沉积，通常用K575d（双头）单元，它需要用水冷却。

仪器特点 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细镀层（0.5nm Cr粒子） ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积（典型为5nm） ● 直径为165mm腔室 ● 可选双溅射头 ● 可接膜厚测控仪

仪器优点 ● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬或铱 ● 易操作 ● *水冷却 ● **高分辨率，可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载 ● 不需要打开真空即可进行顺序涂层 ● 沉积厚度可预设

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