K550 离子溅射镀膜机

EMITECH K550 离子溅射镀膜机 K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得**镀层及重复厚度沉积更为方便。 使用磁电管靶在低电压时可提**，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以*冷却靶面或样品台。 腔室直径为165 mm（6英寸），非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供较适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。 功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，较大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。 溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。 本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。

仪器特点 ·高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm) ·均匀厚度沉积(用于扫描电镜的一般厚度为20nm 或200埃) ·可接膜厚监视器，实时监测镀覆层厚度 ·易操作 ·*冷却样品台 ·**的再次涂层 ·适合各种样品 ·膜厚度重复性好 ·容易装载或卸载样品 ·可预设沉积厚度

性能指标 1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.安全钟罩：聚碳酸酯 4.重量：18公斤 5.靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 6.样品台直径为60 mm，靶面距离40mm，具有倾斜装置的旋转台 7.真空范围：ATM-1x10-4 mbar 8.沉积电流范围：0-50mA 9.沉积速率：0-25nm/分 10.溅射时间：0-4 分钟 11.预设置针阀：控制氩 12.电源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)

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